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“10.1002/admt.202301541” 的检索结果 (精准检索)

题目	作者	年份	DOI	执行操作
Plasma‐Enhanced Atomic Layer Deposition of Amorphous Tantalum Thin Films for Copper Interconnects Using an Organometallic Precursor Advanced Materials Technologies 💎 10 分	Xu Tian, Yuancan Ding, Gaoda Chai, Yupu Tang, Renbo Lei, Guodong Jia, Yuanju Zhang, Jinxiong Li, Yi Zhou, Xinwei Wang	2024	10.1002/admt.202301541	付费解锁 (10分)

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