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“10.1109/vlsitechnologyandcir46783.2024.10631442” 的检索结果 (精准检索)

题目	作者	年份	DOI	执行操作
Vt Fine-Tuning in Multi-Vt Gate-All-Around Nanosheet nFETs Using Rare-Earth Oxide-Based Dipole-First Gate Stack Compatible with CFET Integration 2024 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits) 💎 10 分	H. Arimura, H. Mertens, J. Franco, L. Lukose, W. Maqsood, S. Brus, T. Chiarella, A. Impagnatiello, S. Homkar, V. K. Mootheri, C. Yin, G. A. Verni, M. Givens, L. P. B. Lima, S. Biesemans, N. Horiguchi	2024	10.1109/vlsitechnologyandcir46783.2024.10631442	付费解锁 (10分)

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