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“10.1109/vlsit.2016.7573383” 的检索结果 (精准检索)

题目	作者	年份	DOI	执行操作
Ultra-low NMOS contact resistivity using a novel plasma-based DSS implant and laser anneal for post 7 nm nodes 2016 IEEE Symposium on VLSI Technology 💎 10 分	C.-N. Ni, K.V. Rao, F. Khaja, S. Sharma, S. Tang, J. J. Chen, K. E. Hollar, N. Breil, X. Li, M. Jin, C. Lazik, J. Lee, H. Maynard, N. Variam, A. J. Mayur, S. Kim, H. Chung, M. Chudzik, R. Hung, N. Yoshida, N. Kim	2016	10.1109/vlsit.2016.7573383	付费解锁 (10分)

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