检索大厅 - Scihuhuan

输入 DOI、PMID、完整标题或作者线索，系统会优先匹配明确目标。若您的核心诉求是“请帮我找到这一篇”，推荐直接发布求助，系统同样会先尝试自动碰单。

发布精准求助

DOI / PMID识别最准确，建议直接粘贴完整标识符。

完整标题适合没有 DOI 的文献，尽量保留原始标题。

标题 + 作者题目较短或重名时，补充第一作者可减少误匹配。

用自然语言描述需求，AI 自动解析并精准检索。
该功能正在抓紧开发，敬请期待！

关键词（默认3个，最多10个）

作者来源

出版时间范围

快捷：

自定义：

从到

文献类型

期刊论文会议论文书籍学位论文预印本

排序方式

“10.1117/12.2583922” 的检索结果 (精准检索)

题目	作者	年份	DOI	执行操作
EUV resist performance enhancement by UV flood exposure for high NA EUV lithography Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII 💎 15 分	Cong Que Dinh, Seiji Nagahara, Keisuke Yoshida, Yoshihiro Kondo, Makoto Muramatsu, Kosuke Yoshihara, Ryo Shimada, Teruhiko Moriya, Kathleen Nafus, John Petersen, Danilo DeSimone, Philippe Foubert, Geert Vandenberghe	2021	10.1117/12.2583922	付费解锁 (15分)

前往页