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“10.23919/vlsit.2017.7998177” 的检索结果 (精准检索)

题目	作者	年份	DOI	执行操作
Highly-selective superconformai CVD Ti silicide process enabling area-enhanced contacts for next-generation CMOS architectures 2017 Symposium on VLSI Technology 💎 10 分	N. Breil, A. Carr, T. Kuratomi, C. Lavoie, I.-C. Chen, M. Stolfi, K. D. Chiu, W. Wang, H. Van Meer, S. Sharma, R. Hung, A. Gelatos, J. Jordan-Sweet, E. Levrau, N. Loubet, R. Chao, J. Ye, A. Ozcan, C. Surisetty, M. Chudzik	2017	10.23919/vlsit.2017.7998177	付费解锁 (10分)

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