EUV based multi-patterning schemes for advanced DRAM nodes

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文献信息

题目: EUV based multi-patterning schemes for advanced DRAM nodes
作者: Sayantan Das, Kaushik Sah, Roberto Fallica, Zhijin Chen, Sandip Halder, Andrew Cross, Danilo De Simone, Fergo Treska, Philippe Leray, Ryoung Han Kim, Ethan Maguire, Chih-I Wei, Germain Fenger, Neal Lafferty, Jeonghoon Lee
发表年份: 2022
期刊 / 来源: Advances in Patterning Materials and Processes XXXIX
出版社: SPIE
DOI: 10.1117/12.2615644
文献类型: 学术文献
平台记录更新: 2026-08-29 09:06:15

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