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Layout decomposition for quadruple patterning lithography and beyond
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文献信息
- 题目
- Layout decomposition for quadruple patterning lithography and beyond
- 作者
- Bei Yu, David Z. Pan
- 发表年份
- 2014
- 期刊 / 来源
- 2014 51st ACM/EDAC/IEEE Design Automation Conference (DAC)
- 出版社
- ACM
- 文献类型
- 学术文献
- 平台记录更新
- 2026-08-29 09:17:55
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