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Etch aware computational patterning in the era of atomic precision processing
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文献信息
- 题目
- Etch aware computational patterning in the era of atomic precision processing
- 作者
- Peter Ventzek, Alok Ranjan, Jun Shinagawa
- 发表年份
- 2019
- 期刊 / 来源
- Advanced Etch Technology for Nanopatterning VIII
- 出版社
- SPIE
- 文献类型
- 学术文献
- 平台记录更新
- 2026-08-29 11:26:05
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